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[半导体电子]——磁控溅射

人气:1845 文章出处: 发表时间:2017-11-13
  磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点
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